本文爲「透視日本半導體產業系列」之三
EUV光刻機背後的無名英雄
最近幾年，中國上下對荷蘭ASML的EUV光刻機倍加關注。但是很多人不知道是，即使有了荷蘭的EUV光刻機，沒有日本相關公司提供的材料，EUV光刻機是沒辦法開動的。EUV光刻機工作中最重要的材料有兩個，一個是EUV光刻膠，一個是EUV光罩。這兩個產品，日本企業有極強的存在感。EUV光刻膠的市場份額由東京應化工業、JSR和信越化學三家日本公司100%佔有。EUV光罩是高純度石英基板上面互動堆積大約80層左右的鉬（大約3奈米一層）和矽（大約4奈米一層）的薄層構成的。EUV光罩基板（photo mask blank）是由高純度的，基本沒有膨脹、高度潔淨的石英制造的。日本AGC公司的研發人員做了一個比喻，說明要求的潔淨程度之高。類似一個150米見方的棒球場，其中不能有半個花粉的雜質。
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