半導體

日本光刻膠巨擘在美國面臨專利侵權訴訟

紐約州立大學研究基金會稱,日本捷時雅的美國子公司Inpria銷售的金屬氧化物光刻膠,最初是由該基金會一名教授及其團隊發明的。

一項可能改變晶片製造未來的技術,在紐約州立大學(State University of New York)與一家將由日本政府支持的基金擁有的公司之間引爆了一場價值數十億美元的專利大戰。

根據上週呈遞的法庭檔案,紐約州立大學研究基金會聲稱,日本捷時雅(JSR)的美國子公司Inpria一直在銷售基於該校一名教授發明的技術的晶片材料產品。它可能會以涉嫌侵犯其智慧財產爲由,尋求最高43億美元的損害賠償金。

這場法律戰爆發之際,捷時雅正尋求被一隻國家支持的基金收購,這筆有爭議的交易令人質疑:日本是否正在進入一個國家干預主義新時代,目的是保護具有戰略重要性的技術?

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